Epurio
ZH-CN
搜索
菜单
主页
/
产品与应用
/
半导体化学品
/
光酸
/
ILP-110N
ILP-110N
Low diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 122–124°C
Industry:
Photoresist
Technology:
i-line
Product Type:
PAG
Dynamic Filter Label:
Standard i-line strong acid PAGs
即刻联系